一.薄膜太陽(yáng)能電池涂布試驗(yàn)機(jī)產(chǎn)品介紹：

本儀器由濟(jì)南卓邦試驗(yàn)儀器有限公司精心研制高精度精密型涂布試驗(yàn)機(jī)，本機(jī)主要應(yīng)用于蓋板玻璃的各種涂膠作業(yè)而開(kāi)發(fā)設(shè)計(jì)的專用裝置，同時(shí)也可以用于其他類似材料的涂布。本涂布試驗(yàn)機(jī)，底板采用微孔陶瓷吸附平臺(tái)，同時(shí)采用非接觸式狹縫式涂布頭，通過(guò)進(jìn)料壓力，狹縫寬度調(diào)節(jié)，以及狹縫頭與底板間隙三個(gè)因數(shù)控制濕膜厚度，同時(shí)軟件系統(tǒng)增加了高度調(diào)節(jié)與反饋系統(tǒng)，大大提高了涂布精度與均勻性。

由于常規(guī)實(shí)驗(yàn)室涂布試驗(yàn)機(jī)，受到刮刀調(diào)節(jié)，底板平整度等的影響很難達(dá)到涂布納米級(jí)膜，狹縫式涂布試驗(yàn)機(jī)，底板采用檢驗(yàn)級(jí)大理石平臺(tái)，同時(shí)采用非接觸式狹縫式涂布頭，通過(guò)進(jìn)料壓力，狹縫寬度調(diào)節(jié)，以及狹縫頭與底板間隙三個(gè)因數(shù)控制濕膜厚度，同時(shí)軟件系統(tǒng)增加了高度調(diào)節(jié)與反饋系統(tǒng)，大大提高了涂布精度與均勻性。在國(guó)內(nèi)光學(xué)膜涂布實(shí)驗(yàn)室研發(fā)打樣階段得到了廣泛的應(yīng)用。

二.薄膜太陽(yáng)能電池涂布試驗(yàn)機(jī)技術(shù)參數(shù)：

1.狹縫擠出頭材質(zhì)：不銹鋼

2.狹縫擠出頭涂布寬度：10-50mm

3.狹縫擠出墊片厚度:100 μm

3.狹縫擠出墊片套裝:5 個(gè) 50毫米寬墊片或5 個(gè) 25毫米寬的墊片

4.電熱板溫度:120°C

5.行程長(zhǎng)度:10-100mm

6.平臺(tái)速度:100 μm.s-1

7.最高平臺(tái)速度:50 mm s - 1

8.注射器速度:12 μm.s-1

9.最高注射速度:5 mm.s-1

10.涂布頭與基片之間最大活動(dòng)距離:13 mm

11.管道和接頭材質(zhì):聚四氟乙烯管，高密度PP魯爾接口鎖定連接器、不銹鋼魯爾接口連接器至螺紋連接件

12.電源參數(shù)：100 - 240 V 50Hz

13.尺寸規(guī)格:380 mm x 330 mm x 220 mm

14.重量：30kg

三.產(chǎn)品特點(diǎn)：

1.集成度高-可以通過(guò)將涂布機(jī)集成到一個(gè)在線系統(tǒng)中，以達(dá)到提升產(chǎn)量、大幅度降低薄膜電子設(shè)備的整體生產(chǎn)成本。

2.簡(jiǎn)單可靠—狹縫擠出式涂布是一種可靠的制造薄濕膜片的技術(shù)，多米長(zhǎng)度涂層厚度變化小于2%。涂層厚度是通過(guò)改變?nèi)芤毫髁俊⒒俣冗M(jìn)行控制。通過(guò)對(duì)幾個(gè)不同幾何參數(shù)的設(shè)置可以降低涂層缺陷的機(jī)率(不改變涂層厚度)。

3.適合研究領(lǐng)域應(yīng)用—盡管狹縫擠出式涂布是一項(xiàng)非常強(qiáng)大的技術(shù)，但在薄膜電子應(yīng)用領(lǐng)域的研究和開(kāi)發(fā)目前非常有限。因?yàn)樗饕且豁?xiàng)工業(yè)技術(shù)，即使簡(jiǎn)單的系統(tǒng)價(jià)格也很高，因?yàn)?/span>狹縫擠出式涂布機(jī)的制造商定位的是工業(yè)領(lǐng)域而非學(xué)術(shù)界。此外，這些常規(guī)的涂布系統(tǒng)通常很大、很復(fù)雜，對(duì)于剛剛開(kāi)始沉積薄膜開(kāi)發(fā)所需的處理技術(shù)的科研人員來(lái)說(shuō)并不適合。狹縫擠出式涂布機(jī)形體小巧，操作方便，適合在實(shí)驗(yàn)室使用，這使科研人員在實(shí)驗(yàn)室中使用狹縫擠出式涂布機(jī)成為可能，并使科研人員能夠優(yōu)化溶劑配方和工藝參數(shù)—而不需要大量的打印運(yùn)行。狹縫擠出式涂布將有助于研究人員確保他們的研究結(jié)果在實(shí)際大規(guī)模應(yīng)用中的落地。

4.膜片厚度可控- 狹縫擠出式涂布是一種前測(cè)量涂層技術(shù)，濕膜沉積的厚度僅取決于溶液流量、底片速度和涂層寬度。當(dāng)把溶液濃度和材料密度考慮在內(nèi)，就有可能確定干膜厚度.

5.無(wú)缺陷涂層- 狹縫擠出涂布依賴于穩(wěn)定的涂層珠的形成。這個(gè)珠由上游和下游的半月面組成，需要固定在狹縫擠出涂布頭的邊緣。通過(guò)來(lái)自平衡涂布頭的流量和基片表面的粘性流，這個(gè)珠可以穩(wěn)定下來(lái)。用戶可以改變各種參數(shù)，來(lái)改變這兩個(gè)相互競(jìng)爭(zhēng)的流—這包括溶液流量、底片速度，涂布頭高度，溶液潤(rùn)濕度和狹縫擠出頭通道厚度。這可以有多種方式，在穩(wěn)定的涂層加工窗口可以應(yīng)用多種方式，從而獲得無(wú)缺陷的膜片。